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茂名鎳釩合金靶:材料在薄膜制備領域的關鍵作用茂名鎳釩合金靶,作為一種在薄膜制備領域具有廣泛應用的材料,扮演著重要的角色。其在磁記錄、光伏太陽能、觸控顯示、集成電路等領域的器件鍍膜中展現出優異的性能,為各行業的技術和產品提升提供了有力支撐。鎳釩合金靶材的制備工藝精細,質量和性能得到嚴格把控,具有高純度、高硬度、耐腐蝕性好等特點,讓它成為眾多企業的可以選擇。讓我們一起來深入了解茂名鎳釩合金靶的特性和應
貴金屬靶材:在科技領域中的璀璨之光貴金屬靶材,作為一種重要的材料在電子、醫療、航空航天和新能源領域有著廣泛的應用。其*特的物理和化學性質使其成為眾多行業的可以選擇材料,在當今高科技發展的時代,貴金屬靶材所扮演的角色愈發重要。貴金屬靶材的應用領域多種多樣。在集成電路和大規模集成電路制造領域,像金、銀、鉑、銠等貴金屬靶材被廣泛應用,其高純度的特性能夠保證芯片及其他電子器件的穩定性和性能。在設備制造中,
茂名鎳鉻合金靶茂名鎳鉻合金靶是一種的濺射靶材,由鎳和鉻按一定比例合成的合金構成。這種合金靶材具有出色的物理和化學性質,如高電阻率、低電阻溫度系數、較高的靈敏系數以及對溫度依賴小等特點,使其在多個領域具有廣泛的應用。在制備混合集成電路時,茂名鎳鉻合金靶的電阻薄膜被廣泛應用于制備精密電阻薄膜。這些薄膜能夠滿足電阻應變計敏感薄膜的性能要求,因此常被用于薄膜電阻應變計的制備。此外,在鍍膜行業中,茂名鎳鉻合
氮化硅靶材:現代科技中的隱形英雄 氮化硅靶材在高科技制造領域扮演著關鍵角色。這種材料由氮和硅元素組成,具備獨特的物理和化學性質,使其在半導體、光伏、顯示面板等行業中不可或缺。 氮化硅靶材的制備工藝直接影響其性能。通常采用熱壓燒結或化學氣相沉積(CVD)方法,確保材料的高純度和致密性。熱壓燒結通過高溫高壓使粉末顆粒緊密結合,而CVD則通過氣體反應在基板上沉積氮化硅薄膜。兩種方法各有優劣,熱壓燒結成
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