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五氧化二鉭靶材:高科技領(lǐng)域的隱形冠軍 五氧化二鉭靶材是一種廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜和電子器件制造的關(guān)鍵材料。它的高介電常數(shù)和優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性使其成為制備高性能薄膜的首選。在集成電路制造中,五氧化二鉭薄膜能有效提升電容器的存儲密度,同時具備良好的熱穩(wěn)定性和抗腐蝕能力,確保器件在復(fù)雜環(huán)境下的可靠性。 這種材料的制備工藝對最終性能影響極大。通常采用磁控濺射或化學(xué)氣相沉積技術(shù),通過精確控制氧分壓和沉積
在當(dāng)今科技發(fā)展的時代,高屬材料的需求日益增長,蒸發(fā)鍍膜材料和濺射靶材的應(yīng)用也逐漸成為多個領(lǐng)域的關(guān)鍵。位于汕頭的鉻靶材廠作為一家生產(chǎn)鉻靶材的公司,憑借多名中**技術(shù)人員和化應(yīng)用實驗室,致力于為客戶提供的鉻靶材產(chǎn)品,滿足他們的多樣化需求。**鉻靶材的重要性與應(yīng)用**鉻靶材,作為一種重要的金屬材料,主要以鉻元素為主要成分。鉻具有高硬度、高熔點和抗氧化性能等特點,而鉻靶材則將這些優(yōu)良特性發(fā)揮到**。廣泛應(yīng)
鎳釩合金靶材的特點及應(yīng)用鎳釩合金靶材主要用于太陽能行業(yè), 電子行業(yè)等領(lǐng)域.鎳釩靶材的應(yīng)用及要求的純度如表 1 所示.1)光存儲 .2) 太陽薄膜電池.3) 平板顯示器鍍膜.4) 電子及半導(dǎo)體領(lǐng)域.5) 建筑玻璃.鎳釩合金濺射靶材的特性要求濺射鎳釩靶材要求純度高、 雜質(zhì)少, 化學(xué)成分均勻、無偏析, 無氣孔, 晶粒組織均勻, 晶粒尺寸大小為微米級, 單個濺射靶材中要求晶粒尺寸盡量相差越小越好.這樣在磁
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例,因素主要有:靶材與基
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機(jī): 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
郵 編:
網(wǎng) 址: dgsdwxc1.cn.b2b168.com
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