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惠州鉻靶材報價 作為專業生產高純金屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司,我們致力于為客戶提供優質的鉻靶材產品,并為不同領域的研究和應用需求提供定制化解決方案。鉻靶材作為一種重要材料,在半導體制造、光學鍍膜、磁盤制造等領域有廣泛的應用。在這里,我們將為您介紹鉻靶材的特性、應用領域以及市場前景。 鉻靶材是一種以鉻元素為主要成分的材料,具有高硬度、高熔點和抗氧化性能。在光學鍍膜
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例,因素主要有:靶材與基
鎳釩合金靶材的特點及應用鎳釩合金靶材主要用于太陽能行業, 電子行業等領域.鎳釩靶材的應用及要求的純度如表 1 所示.1)光存儲 .2) 太陽薄膜電池.3) 平板顯示器鍍膜.4) 電子及半導體領域.5) 建筑玻璃.鎳釩合金濺射靶材的特性要求濺射鎳釩靶材要求純度高、 雜質少, 化學成分均勻、無偏析, 無氣孔, 晶粒組織均勻, 晶粒尺寸大小為微米級, 單個濺射靶材中要求晶粒尺寸盡量相差越小越好.這樣在磁
公司2000平方米加工制造中心,先進的加工設備,優化的加工工藝,為客戶快速供貨;公司實行計劃管理,注重過程控制,成品出廠100%檢驗,為客戶制造國際品質的產品;公司根據客戶的需求,承接靶材、非標的設計和制造等服務。
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