半導體晶片的研磨

時間：2020-11-12作者：淄博市淄川大眾磨料廠瀏覽：269

淄博市淄川大眾磨料廠專注于平板狀氧化鋁研磨微粉等

• 詞條

  詞條說明

• 平板狀氧化鋁研磨微粉的應用

  ? ? ?氧化鋁有多種不同的類型，常規的氧化鋁與其他金屬氧化物一樣，本身的硬度大，熔點高，機械強度好，且耐腐蝕抗氧化。平板狀氧化鋁還因其獨特的片狀結構和晶體形狀，從而具備了微米粉體和納米材料的雙重特性。它屬于α-Al2O3，具有明顯的鱗狀結構特征和較大的徑厚比。 ? 目前，平板狀氧化鋁晶粒的徑向尺度一般為5-50 μm，厚度一般在100-500 nm之間，晶

• 磨料行業系列

  磨料行業系列此系列產品根據用戶的要求，可生產目數為300,400,600,800,1000,1200,1500等微粉以及超細微粉。可用于研磨拋光藍寶石，水晶，不銹鋼，石材等各行業產品表面處理。?物理性能指標根據研磨拋光產品不同而不同?產品化學成分%：AL2O3SiO2Fe2O3Na2O99.50.050.040.20?

• 半導體材料的研磨拋光

  ? ? ?磨削和研磨等磨料處理是生產半導體晶片必要方式，然而磨削和研磨會導致單晶硅晶片的表面完整性變差。因此拋光和平面化對生產微電子原件來說是十分重要的。1簡介半導體基片的結構厚度已經被降低到0.35微米，但拋光和平展化任然是制備微電子原件的必要準備。因此，拋光半導體基底材料的任務將在集成電路的制造過程中的角度來限定。本次講座的主要重點放在工藝技術，原材料和結構性晶圓

• MCA平板狀氧化鋁拋光研磨微粉性能指標

  粒度分布表單位微米（μm）產品名稱平均粒度最大粒徑（dv-0值）累積高度3%點的粒徑（dv-3值）累積高50%點的粒徑（dv-50值）累積高94%點粒徑（dv-94值）?MCA4040<77.639-44.627.7-31.718-20MCA3535<64.235.4-39.823.8-27.215-17MCA3030<50.428.1-32.319.2-22.313.