詞條
詞條說明
真空鍍膜技術作為一種產生特膜層的技術,在現實生產生活中有著廣泛的應用。真空鍍膜技術有三種形式:即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。在這里主要講下磁控濺射鍍膜。磁控濺射技術在市場中應用非常的廣泛,各行各業物件膜層鍍膜,大多數都是采用磁控濺射技術,磁控濺射技術在真空行業也是非常的受歡迎和追捧。高真空磁控濺射鍍膜是屬于物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種,一般的濺
【前言】金剛石是自然界已發現的具有較高的硬度、強度、耐磨性材料,金剛石具有的熱導率、透過波段、聲速以及半導體特性和化學惰性等綜合性能使其成為當今世界上較優秀的*材料。上世紀80年代初期通過化學低壓氣相沉積生成金剛石薄膜(CVD)技術**突破性進展,經過多年的研究發展,CVD金剛石生長技術已日漸成熟。目前已有四種形態的CVD金剛石產品進入市場,它們是:1)純多晶金剛石厚片 2)涂層金剛石;3)大
鵬城半導體|HFCVD熱絲化學氣相沉積設備 高性價比 生產廠家 臺風快訊
金剛石是一種典型的多功能限材料,在電學、光學、熱學、力學聲學和電化學方面具有優異性能,在眾多GAO*XIN*技術領域具有廣闊的應用前景。20世紀80年代之后,化學氣相沉積(CVD)技術制備金剛石涂層促進了其廣泛的應用,引發了席卷的“金剛石熱”。90年代后,隨著金剛石涂層工業化制備技術的出現,金剛石涂層產業開萌生。金剛石涂層工具、金剛石熱沉、金剛石光學窗口、金剛石膜基探測器及傳感器和金剛石電等一系列
真空鍍膜設備的薄膜制作過程,簡單來說就是將一種材料(薄膜材料)轉移到另一種材料(基底)的表面,形成和基底牢固結合的薄膜的過程。所以,任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發、遷移和凝聚三個重要環節。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發源“源"的作用是提供鍍膜的材料(或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態物質。熱絲CVD金剛石設備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進行的,在氣態物質遷
公司名: 鵬城半導體技術(深圳)有限公司
聯系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機: 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區留仙大道3370號南山智園崇文園區3號樓304
郵 編:
網 址: pcs2021.b2b168.com
公司名: 鵬城半導體技術(深圳)有限公司
聯系人: 戴朝蘭
手 機: 13632750017
電 話:
地 址: 廣東深圳南山區留仙大道3370號南山智園崇文園區3號樓304
郵 編:
網 址: pcs2021.b2b168.com