等離子清洗機(jī)，光學(xué)行業(yè)的表面活化

時(shí)間：2022-04-09作者：煙臺(tái)金鷹科技有限公司瀏覽：242

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 晶圓光刻膠等離子清洗機(jī)及設(shè)備

  在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中，晶圓芯片表面會(huì)存在各種微粒、金屬離子、有機(jī)物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質(zhì)，為了避免污染物對(duì)芯處理性能造成致致命影響和缺陷，在保證不破壞芯處理及其他輔助材料表面特性、電特性的前提下，半導(dǎo)體晶圓在制造過(guò)程中，需要經(jīng)過(guò)多次的表面清洗步驟，而晶圓光刻膠plasma等離子清洗機(jī)是晶圓級(jí)和3D封裝應(yīng)用的理想的干式清洗設(shè)備。晶圓光刻蝕膠等離子清洗機(jī)的應(yīng)用：等離子應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠

• 等離子清洗機(jī)設(shè)備之清洗概念

  等離子體清洗設(shè)備之清洗概念plasma?等離子清洗機(jī)是通過(guò)常壓或真空環(huán)境下產(chǎn)生的等離子體，對(duì)材料表面進(jìn)行清洗、活化，刻蝕等處理，以獲得潔凈、有活性的表面，增加了產(chǎn)品的耐用性，同時(shí)為后道的工續(xù)（例如印刷、粘接、貼全、封裝）提供良好的界面狀態(tài)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、航空航天技術(shù)、PCB電路板、LCD、LED產(chǎn)業(yè)，光伏太陽(yáng)能、手機(jī)通訊、光學(xué)材料，汽車(chē)制造，納米技術(shù)、生物醫(yī)療等領(lǐng)域。等離子清

• 等離子清洗機(jī)去除晶圓Wafer光刻膠

  等離子清洗機(jī)能去除晶圓表面肉眼看不到的表面污染物，使得晶圓表面變得清潔并具親水性芯片制作完成后殘余的光刻膠無(wú)法用濕式法清洗，只能通過(guò)等離子清洗機(jī)進(jìn)行去除，晶圓級(jí)封裝前等離子清洗機(jī)處理的目的是去除表面的無(wú)機(jī)物，還原氧化層，增加銅表面的粗糙度，提高產(chǎn)品的可靠性。等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner又被稱(chēng)為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子活化機(jī)、Plasma清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)

• 等離子清洗機(jī)的活化預(yù)處理

  等離子清洗機(jī)的表面處理的應(yīng)用有：聚丙烯（PP）、聚乙烯（PE）、聚氯乙烯（PVC）、聚苯乙烯（PS）、高抗沖聚苯乙烯（HIPS）、ABS、PC、EPDM、聚酯（PET、APET）、聚氨酯（PUL）、聚甲醛、聚四氟乙烯、乙烯基、尼龍、（硅）橡膠、玻璃、有機(jī)玻璃、陶瓷等眾多高分子材料的印刷，涂覆和粘接等工藝的表面預(yù)處理，表面活化和改善附著力等離子清洗機(jī)就是利用等離子體進(jìn)行表面處理，使得材料表面產(chǎn)生各種