氮化鈦(TiN)涂層技術(shù)分析

時間：2014-10-31作者：東莞愛加真空科技有限公司瀏覽：137

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• 氮化鈦(TiN)涂層技術(shù)分析

  氮化鈦涂層是自PVD技術(shù)發(fā)明以來，較常見的一種涂層，具有較高的性價比，也是之前運用的較廣泛的一種PVD涂層,它具有較高的薄膜硬度。 用磁控濺射方法沉積的氮化鈦沉積速度慢，表面顆粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度較低。 用磁控陰極弧的方法沉積的氮化鈦，沉積速度快，但表面顆粒大，所以表面光潔度較差，液滴等表面缺陷也較多，但是可以獲得較高的表面硬度。

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  1.兩種鍍膜原理不同： 電子束蒸發(fā)鍍膜：利用高能電子束轟擊靶材，使材料表面產(chǎn)生很高的溫度，由固態(tài)直接升華到氣態(tài)，沉積到工件表面所形成的薄膜，主要運用在光學(xué)方面(如：眼鏡片的增透膜，CCD鏡頭，光通訊方面等等) 磁控濺射鍍膜：高能離子轟擊靶材，使靶材表面原子飛逸出來的過程稱濺射，那么采用磁場控制后，濺射出來的原子或二次電子以輪擺線的形式被束縛在靶材表面，使得輝光維持而進行濺射，主要運用在裝飾方面(

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• Polycold 水汽捕集泵的工作原理

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